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含銅蝕刻液萃取提銅工藝與設(shè)備解析

含銅蝕刻液萃取提銅工藝與設(shè)備解析
2025.09.09
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隨著電子產(chǎn)業(yè)飛速發(fā)展,印刷電路板(PCB)需求持續(xù)攀升,中國(guó)已成為全球最大的PCB制造基地。據(jù)統(tǒng)計(jì),我國(guó)每年工業(yè)用銅量的約20%用于PCB生產(chǎn),其中近10%的銅流入蝕刻廢液中。含銅蝕刻液的高效處理與資源化回收,不僅關(guān)乎環(huán)境保護(hù),更是銅資源可持續(xù)利用的重要途徑。 在多種處理工藝中,萃取-電積技術(shù)因其...

  隨著電子產(chǎn)業(yè)飛速發(fā)展,印刷電路板(PCB)需求持續(xù)攀升,中國(guó)已成為全球最大的PCB制造基地。據(jù)統(tǒng)計(jì),我國(guó)每年工業(yè)用銅量的約20%用于PCB生產(chǎn),其中近10%的銅流入蝕刻廢液中。含銅蝕刻液的高效處理與資源化回收,不僅關(guān)乎環(huán)境保護(hù),更是銅資源可持續(xù)利用的重要途徑。

  在多種處理工藝中,萃取-電積技術(shù)因其高效、環(huán)保和經(jīng)濟(jì)性,成為當(dāng)前堿性蝕刻液再生與銅回收的主流方法。該技術(shù)不僅能將廢液中的銅幾乎全部回收,產(chǎn)出純度高達(dá)99.95%的電解銅,還可實(shí)現(xiàn)蝕刻液的再生回用,大幅降低企業(yè)生產(chǎn)成本。

  一、工藝流程:三步實(shí)現(xiàn)銅回收與廢液再生

  1、萃取階段:

  堿性蝕刻廢液與專(zhuān)用萃取劑通過(guò)CWL-M系列高效離心萃取機(jī)分別從重相和輕相進(jìn)口進(jìn)入設(shè)備。在離心力作用下,銅離子被高效萃取至有機(jī)相,實(shí)現(xiàn)銅與蝕刻液的初步分離。萃取劑的質(zhì)量直接決定銅的提取效率和再生液品質(zhì)。

  2、反萃階段:

  負(fù)載銅的萃取劑與硫酸在離心萃取機(jī)中混合反應(yīng),銅離子被硫酸反萃,形成硫酸銅溶液,萃取劑則恢復(fù)活性,循環(huán)使用。這一過(guò)程實(shí)現(xiàn)了銅的轉(zhuǎn)移與萃取劑的再生,操作連續(xù)、效率高。

  3、電積階段:

  硫酸銅溶液進(jìn)入電解系統(tǒng),在電場(chǎng)作用下,銅離子在陰極析出形成高純電解銅,硫酸則再生并返回反萃段重復(fù)使用,實(shí)現(xiàn)閉路循環(huán),無(wú)二次污染。

  二、核心設(shè)備:CWL-M系列離心萃取機(jī)

  該工藝的成功實(shí)施離不開(kāi)高效的萃取設(shè)備。CWL-M系列離心萃取機(jī)憑借其強(qiáng)離心力實(shí)現(xiàn)兩相快速混合與分離,具有存留時(shí)間短、分相迅速、流比適應(yīng)范圍寬等優(yōu)勢(shì)設(shè)備可靈活調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速與堰板結(jié)構(gòu),適應(yīng)不同粘度與密度物料,有效解決傳統(tǒng)設(shè)備中常見(jiàn)的離子夾帶和相分離不徹底問(wèn)題。

鄭州天一萃取CWL-M離心萃取機(jī)

  三、技術(shù)優(yōu)勢(shì)與經(jīng)濟(jì)效益

  該工藝最大優(yōu)點(diǎn)在于銅的提取不破壞蝕刻液原有成分,降銅后的萃余液僅需添加少量蝕刻鹽和氨水調(diào)整參數(shù),即可再生為可用的蝕刻液,回用于生產(chǎn)線(xiàn),實(shí)現(xiàn)“廢液零廢棄”。同時(shí),萃取劑循環(huán)使用,損耗極低,大幅降低運(yùn)行成本。企業(yè)不僅可通過(guò)銷(xiāo)售電解銅獲得收益,還節(jié)省了新液采購(gòu)與廢液處置費(fèi)用,顯著增強(qiáng)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。

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